10月17日晚間，安集科技披露業績預告。今年前三季度，公司預計實現營業收入7.54億元至8.33億元，同比增長60.24%至77.03%;歸母凈利潤預計為1.73億元至2.34億元，同比增長78.28%至141.14%;扣除非經常性損益后的歸母凈利潤為1.9億元至2.57億元，同比增長175.9%至273.2%。
據安集科技介紹，目前，公司的產品包括不同系列的化學機械拋光液和功能性濕電子化學品，主要應用于集成電路制造和先進封裝領域。
功能性濕電子化學品作為公司業績增長的重要第二曲線，依靠自主創新，在特定領域實現技術突破，下好創新"先手棋"，進入發展快車道。
2007年，厚膜光刻膠剝離液 BPC1000系列誕生，采用槽式批處理機、單片機工藝，用于封裝及特色工藝。同年，鋁制程刻蝕后清洗液 IDEAL Clean系列誕生，成為首家國產化并出口海外的半水性刻蝕后清洗液。
2015年，拋光后清洗液 EPS1050、EPS2000系列誕生，可用于銅、鎢拋光后清洗。
2017年，銅大馬士革工藝刻蝕后清洗液 ICS8000系列誕生，水性刻蝕后清洗液實現穩定量產，成為主流供應商。
2020年，硬掩模銅大馬士革工藝刻蝕后清洗液 ICS9000系列誕生，采用銅互連及鈷互連工藝清洗。
2021年，安集科技實現功能性濕電子產品平臺延伸，高選擇比磷酸、新材料刻蝕液、電鍍液等，都具有不同程度發展。
對于功能性濕電子化學品的布局，安集科技定位于技術和市場領導者，將會針對客戶需求及市場的供應能力，致力于攻克領先技術節點難關并提供相應的產品和解決方案。截至目前，安集科技已成為眾多半導體行業領先客戶的主流供應商，通過開展持續科研創新取得以下行業多項成果：
開啟集成電路光刻膠剝離液、刻蝕后清洗液、拋光后清洗液國內供應能力
推動國內集成電路刻蝕后清洗液進入國際市場
成為國內主流的銅大馬士革工藝刻蝕后清洗液供應商
實現硬掩模銅大馬士革工藝刻蝕后清洗液穩定供應
擁有超60余項發明專利，并完成刻蝕液、電鍍液平臺延伸搭建
未來，安集科技將持續深耕，依托已有的先進技術平臺和人才團隊，為客戶提供高附加值的產品和服務。
